半導體清洗是清除客戶社設備配件在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的污染物的工程。
通過多種半導體清洗辦法除去客戶制造工程中發(fā)生的污染，延長配件壽命，提高客戶工序的收率，開動率更大化， 為顧客節(jié)約成本提供多種半導體清洗解決方案。
根據(jù)客戶的各種工藝和配件提供合適的清洗技術。
不僅去除工藝污染物，還將配件表面 維持在更佳狀態(tài)，控制顆粒，為了提供延長產(chǎn)品壽命的更佳解決方案進行堅持不斷地研究開發(fā)。
| CuStrip? | CleanPeel? | SurFinish? | SurfRestore? | |
|---|---|---|---|---|
| 使用目的 | 將適用Cu工藝的配件的母材損傷減至更小，去除工藝污染物 | 通過將配件損傷減至更小以延長產(chǎn)品壽命 | Al CVDShowerhead 母材和HoleDamage 減少 | 復原Quartz 材質(zhì)產(chǎn)品的PlasmaEtching表面損傷 |
| 效果 | 減少母材Etch Rate 延長產(chǎn)品壽命 |
延長產(chǎn)品壽命 | Particle Source減少 維持GasFlowUniformity |
改善Particle 延長產(chǎn)品壽命 |
| 適用產(chǎn)品 | Al Collimator、Al CoverRing 等 | PVD 工藝Shield 類 | CVD 工藝Show erhead | Quartz Window, Quartz pedestal等 |
| 效果 |  |
 |
 |
 |
CN
EN
JP
KR
.BLANK EPD V2/1.jpg)
.BLANK EPD V2/2.jpg)
.SHIELD DEPO V2/4.jpg)
.SHIELD DEPO V2/1.jpg)
.SHIELD DEPO V2/2.jpg)
.SHIELD DEPO V2/3.jpg)