半導體清洗是清除客戶社設備配件在生產過程中產生的污染物的工程。
通過多種半導體清洗辦法除去客戶制造工程中發生的污染，延長配件壽命，提高客戶工序的收率，開動率更大化， 為顧客節約成本提供多種半導體清洗解決方案。
根據客戶的各種工藝和配件提供合適的清洗技術。
不僅去除工藝污染物，還將配件表面 維持在更佳狀態，控制顆粒，為了提供延長產品壽命的更佳解決方案進行堅持不斷地研究開發。
| CuStrip? | CleanPeel? | SurFinish? | SurfRestore? | |
|---|---|---|---|---|
| 使用目的 | 將適用Cu工藝的配件的母材損傷減至更小，去除工藝污染物 | 通過將配件損傷減至更小以延長產品壽命 | Al CVDShowerhead 母材和HoleDamage 減少 | 復原Quartz 材質產品的PlasmaEtching表面損傷 |
| 效果 | 減少母材Etch Rate 延長產品壽命 |
延長產品壽命 | Particle Source減少 維持GasFlowUniformity |
改善Particle 延長產品壽命 |
| 適用產品 | Al Collimator、Al CoverRing 等 | PVD 工藝Shield 類 | CVD 工藝Show erhead | Quartz Window, Quartz pedestal等 |
| 效果 |  |
 |
 |
 |
CN
EN
JP
KR
.BLANK EPD V2/1.jpg)
.BLANK EPD V2/2.jpg)
.SHIELD DEPO V2/4.jpg)
.SHIELD DEPO V2/1.jpg)
.SHIELD DEPO V2/2.jpg)
.SHIELD DEPO V2/3.jpg)